オランダの半導体製造装置大手ASMLの株価が下落した。米国で提案されているMATCH法により、中国向け半導体製造装置への規制が強化される可能性が浮上したためだ。これまで規制の対象外だった旧式の深紫外線（DUV）露光装置にも輸出管理が拡大される可能性がある。
MATCH法とは？
MATCH法（製造・技術管理調和法）は、中国の半導体産業を標的とした米国の輸出管理政策の潜在的拡大を意味する。重要な点は、最も先進的なEUVチップ製造装置だけでなく、旧式のDUV装置にも規制を拡大することだ。これはASMLの2026年売上高の10数％に相当する可能性がある。
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ASMLの戦略的重要性
ASMLは最先端のフォトリソグラフィ装置においてほぼ独占的な地位を保持しており、世界で最も戦略的に重要なテクノロジー企業の一つとなっている。米国政府と欧州政府の両方が、ASMLの輸出ライセンスを地政学的な手段として利用し、中国が最先端のチップ製造技術にアクセスすることを制限してきた。
世界の半導体産業への影響
輸出規制の拡大は、世界の半導体サプライチェーンのさらなる分断、中国メーカーのコスト増、そして北京による中国で事業を展開する西側テクノロジー企業への報復措置の発動を引き起こす可能性がある。ASMLの投資家は、ワシントンが主要な欧州の同盟国を怒らせるリスクを冒してでも技術締め付けを拡大し続ける中、不確実性の高まりに直面している。
半導体セクターを追跡する者にとって、MATCH法は2026年以降も注意深く監視する必要がある重大な政策リスクを表している。
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